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一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、曝光等工序。()A.正确B.错误【答案】A【解析】第一步,本题考查其他(科技)知识。第二步,光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质

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